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大口徑動態plasma輔助法卷對卷式石墨烯制備設備 RTR-150
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產品名稱

大口徑動態plasma輔助法卷對卷式石墨烯制備設備 RTR-150

設備型號:RTR-150 設備簡介: 該設備為我司研發用于材料連續生長的專用設備,此款設備是快速冷卻卷對卷等離子體增強CVD連續生長爐,它由高溫生長腔體,質量流量計氣路系統,真空機組,RF射頻電源模塊,石英管,冷卻裝置,收放卷的密封裝置,自動化控制系統組成,兩端分別安裝有進料進氣真空腔室和出料排氣真空腔室(即收放卷的密封裝置),收放密封裝置內分別對應安裝有放卷滾輪和收卷滾輪,所輸出料排氣腔體與爐體之間安裝有冷卻裝置。相對于現有技術具有快速冷卻、連續生長的優點。
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產品描述
產品參數

加熱系統

最高溫度

1200℃

使用溫度

≤1100℃

爐管尺寸

Φ150mm(爐管直徑可根據實際需求定制)

爐膛材料

氧化鋁、高溫纖維制品

熱電偶

K型熱電偶

控溫精度

±1℃

控溫方式

30段可編程控溫,PID參數自整定,操作界面為7”工控電腦,內置PLC控制程序

加熱區長度

200+200+200mm

加熱元件

電阻絲

供電電源

單相,220V  50Hz

PE系統

功率輸出范圍

0W~1000W

最大反射功率

200W

射頻輸出接口

50 Ω, N-type, female

功率穩定度

≤5W

諧波分量

≤-50dbc

供電電壓

單相交流(187V-253V) 頻率50/60HZ

整機效率

≥70%

功率因素

≥90%

冷卻方式

強制風冷

三路質子流量控制系統

連接頭類型

雙卡套不銹鋼接頭

標準量程(N2)

200sccm,500sccm、1000sccm(可根據用戶要求定制)

準確度

±1.5%F.S

線性

±1%F.S

重復精度

±0.2%F.S

響應時間

氣特性:1~4 Sec,電特性:10 Sec

工作壓差范圍

0.1~0.5 MPa

最大壓力

3MPa

接口

Φ6,1/4''

顯示

4位數字顯示

工作環境溫度

5~45高純氣體

壓力真空表

-0.1~0.15 MPa, 0.01 MPa/格

截止閥

Φ6

內外雙拋不銹鋼管

Φ6

低真空機組

空氣相對濕度

≤85%

工作環境

5℃~40℃

工作電壓

380V

功率

1KW

抽氣速率

32m³/h

極限真空

5X10-1Pa(空載冷態)

工作壓力范圍

1.01325X105~1.33X10-2Pa

耐壓值

0.03MPa

進氣口口徑

KF40

排氣口口徑

KF40

連接方式

采用波紋管,手動擋板閥與波紋管相連

未找到相應參數組,請于后臺屬性模板中添加
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