粉狀基底石墨烯生長設備_產品中心_安徽貝意克設備技術有限公司

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皖公網安備 34019202000574號

粉狀基底石墨烯生長設備

名稱

公斤級回轉爐 BTF-1200C-III-R-150

設備型號：BTF-1200C-III-R-150 設備簡介：本設備集成了一臺1200C的三溫區管式爐，溫區長：300*300*300和一臺三溫區預熱爐，溫區長：200*200*200；2路氣體流量和通過蠕動泵控制的液體一起進入盤管中，通過三溫區預熱爐預熱后導入右端法蘭進氣口；通過法蘭內導液（氣）管進入異形石英管反應區與儲料罐通過送料機構送入的粉料混合參與反應；左右端配置水冷磁流體法蘭；通過旋轉異形石英管攪拌試驗樣品；出料取樣通過電動推桿升起抬高設備平臺，傾斜卸料；法蘭左端（末端）配備過濾冷凝裝置，用于未參與反應的液體。設備同時配套真空泵和冷水機，通過觸摸屏操控。

名稱

連續送料出料回轉PECVD系統 BTF-1200C-R-PECVD-AD2

設備型號：BTF-1200C-R-PECVD-AD2 設備簡介：BTF-1200C-R-PECVD-AD2設備是全自動Plasma增強PECVD系統，連續可控溫度以及Plasma強度等，配備真空系統，可以低壓條件下進行實驗，PECVD系統能使整個實驗腔體都處于輝光產生區，輝光相對均勻等效，有效的解決了傳統等離子工作不穩定狀態，該設備爐管可360°旋轉，有助于粉料的燒結更均勻，可大角度傾斜，方便進出料，傾斜角度在0-30°之間。

名稱

回轉放氣爐 BTF-700C-III-R

設備型號：BTF-700C-III-R 設備簡介：本設備加熱爐采用電阻絲加熱，技術成熟質量可靠，溫場均勻。爐管內部帶粉塵擋板，兩端為磁流體旋轉密封，爐管整體由伺服電機驅動在加熱爐膛內旋轉，轉速可調。氣體緩沖罐，設計容量600L設置壓力泄放安全裝置。緩沖罐接口開關控制全部為PLC智能電動控制。高真空機組使用羅茨泵機組帶粉塵過濾器，抽速300L/S，真空度≤10pa，設置有粗真空旁抽管路，安全保護程序。廣泛應用于電池正負極材料、無強酸堿性粉體材料、顆粒狀物料等。

名稱

多功能回轉CVD系統 BTF-1400C-II-OP-R

設備型號：BTF-1400C-II-OP-R

名稱

回轉CVD系統 BTF-1200C-III-R-CVD-150

設備型號：BTF-1200C-III-R-CVD-150

名稱

1200℃連續進出料回轉CVD系統 BTF-1200C-RB-D-CVD

設備型號：BTF-1200C-RB-D-CVD 設備簡介：該款CVD設備配備加熱系統、進料系統、出料系統、觸摸屏控制系統、氣路系統、真空系統、平臺升降裝置等；該設備爐管可360°旋轉，有助于粉料的燒結更均勻，可大角度傾斜，方便進出料，傾斜角度在0-25°之間；真空系統由一個PCG550真空計和一臺DRV-16機械泵組成，右端法蘭上配有壓力保護裝置和一個截止閥控制的進氣口；同時右端作為進料端，配有進料罐和送料機構作為進料使用；左端法蘭上配有PCG550真空計和一個球閥控制的出氣口以及一個KF25真空接口；同時左端作為出料端，配有出料系統和收料罐。設備用途：廣泛應用于電池正負極材料，無強酸堿性粉體材料，顆粒狀物料等。

名稱

自動進料回轉CVD系統 BTF-1200C-R-CVD

型號：BTF-1200C-R-CVD

名稱

回轉PECVD BTF-1200C-R-PECVD

設備型號：BTF-1200C-R-PECVD 設備簡介：本款設備可以做金屬復合石墨烯材料，是目前最高端的金屬復合材料制備設備?？梢杂糜趧恿﹄姵?，提升電池內阻和能量密度，有效解決新能源汽車電池的問題。設備爐管可360度旋轉，管內壁有石英擋片幫助粉料翻轉有助于燒結得更均勻；可左右大角度傾斜，方便出放料，傾斜角度在0~35°之間。全自動Plasma增強CVD系統(PECVD)，連續可控溫度以及Plasma強度等，配備真空系統，可以實現低壓條件下的實驗，針對低溫石墨烯、碳納米管生長等。PECVD系統能使整個實驗腔體都處于輝光產生區，輝光均勻等效，這種技術很好的解決了傳統等離子工作不穩定狀態，這樣離子化的范圍和強度是傳統PECVD的百倍，并解決了物料不均勻堆積現象。

名稱

等離子體增強回轉PECVD系統 BTF-1200C-R-PECVD

設備型號：BTF-1200C-R-PECVD 設備簡介：我司研制的回轉PECVD系統能使整個實驗腔體都處于輝光產生區，輝光均勻等效，這種技術很好的解決了傳統等離子工作不穩定狀態，這樣離子化的范圍和強度是傳統PECVD的百倍，并解決了物料不均勻堆積現象；該款設備選用特殊形狀(兩頭細中間粗)的石英管作為化學氣相沉積的反應室;加熱的同時爐管可360度旋轉，管內壁有石英擋片幫助粉體材料翻炒有助于燒結得更均勻;而且爐體可左右大角度傾斜，方便進出料，傾斜角度在0~35°可調。設備應用：此款設備現廣泛應用于低溫石墨烯制備實驗、粉體材料碳包覆實驗。

名稱

連續回轉PECVD系統 BTF-1200C-RP-PECVD

設備型號：BTF-1200C-RP-PECVD 設備簡介：連續回轉PECVD系統BTF-1200C-RP-PECVD是全自動Plasma增強CVD系統(PECVD)，連續可控溫度以及Plasma強度等，配備真空系統，可以低壓條件下實現工藝，PECVD系統能使整個實驗腔體都處于輝光產生區，輝光相對均勻等效，很好的解決了傳統等離子工作不穩定狀態，該設備爐管可360°旋轉，有助于粉料的燒結更均勻，可大角度傾斜，方便進出料，傾斜角度在0-35°之間，所有物料經過的管道都選用非金屬材質，如：進出料腔體選用石英材質，推料桿選用石英及聚四氟材質。

名稱

小型回轉PECVD系統 BTF-1200C-R-S-PECVD

設備型號：BTF-1200C-R-S-PECVD 設備簡介：BTF-1200C-R-S-PECVD是一款小型回轉PECVD，該設備爐管可360度旋轉，管內壁有石英擋片幫助粉料翻轉有助于燒結得更均勻；可左右大角度傾斜，方便出放料，傾斜角度在0~35°之間；該款設備是全自動Plasma增強CVD系統(PECVD)，連續可控溫度以及Plasma強度等，配備真空系統，可以實現低壓條件下的實驗，針對低溫石墨烯、碳納米管生長等。PECVD系統能使整個實驗腔體都處于輝光產生區，輝光均勻等效，這種技術很好的解決了傳統等離子工作不穩定狀態，這樣離子化的范圍和強度是傳統PECVD的百倍，并解決了物料不均勻堆積現象；本款設備可以做金屬復合石墨烯材料，是目前最高端的金屬復合材料制備設備。